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對足底壓力大小的研究，可以反映人在運(yùn)動或靜止?fàn)顟B(tài)下的足底壓特征，研究人在不同狀態(tài)下的特征即運(yùn)動過程中足的動力學(xué)特性。它在臨床生物力學(xué)研究診斷病理足與足部康復(fù)評定領(lǐng)域已逐漸成為重要手段。
他的測量手法和發(fā)展歷經(jīng)對足底的壓力及分布做出定性判斷足印技術(shù)、依光學(xué)反射原理的足底壓力掃描技術(shù)和依傳感器的力板與測力臺技術(shù)、壓力墊技術(shù)等。
足底壓力分析技術(shù)的應(yīng)用
隨著新型傳感器技術(shù)的壓力測量儀器的發(fā)展與計算機(jī)技術(shù)的廣泛應(yīng)用，足底壓力測量技術(shù)在臨床醫(yī)療診斷及康復(fù)醫(yī)學(xué)中得到越來越廣泛的應(yīng)用，其測量技術(shù)也不斷的發(fā)展成熟，指標(biāo)也逐步豐富，測量的精度也隨之提高。它能為臨床足疾患者(糖如尿病足、足部損傷等)和特殊人群(如孕婦、老年人、小兒麻痹癥患者等)的足底壓力測量和步態(tài)特征分析提供技術(shù)支持，為足疾的功能康復(fù)、療效評定和手術(shù)后效果鑒定提供客觀評價。因此這方面的研究由于測量技術(shù)的進(jìn)步在近些年已逐步成為一個研究熱點(diǎn)。
對步行時的足底壓力進(jìn)行研究，主要觀察力一時間曲線的特征，即谷峰值、谷值的出現(xiàn)時間和幅度的變化。在整個步態(tài)周期中，垂直方向受力曲線具有典型的對稱雙峰性質(zhì)。行走時足一地接觸力在垂直方向上的分力大，在每個步態(tài)周期轉(zhuǎn)折點(diǎn)出現(xiàn)*值，足跟著地時有一*大值，隨足部逐漸放平，受力面積逐漸*大，受力減小，足部完全放平時受力達(dá)小，至足跟離地，足趾登地時出現(xiàn)另一*大值。正常人足一地接觸力在水平、前后方向受力較小，且基本對稱。對在不同行走速度下的足底壓力進(jìn)行的測試結(jié)果表明隨行走速度的增加，地面對足底的垂直作用力增加。這與牛頓力學(xué)規(guī)律相吻，這些測量結(jié)果還表明，隨行走速度的增加壓力時間積分值逐漸減小。
足底壓力分析技術(shù)的研究結(jié)果
有研究表明步行時足底壓力較站立時明顯增加且壓力分布改變，超過5O％的正常人動態(tài)峰值足壓位于第2跖骨頭，而足跟區(qū)域出現(xiàn)動態(tài)峰值足壓僅占16％ ，表明步行時足底大壓力前移，以前足跖骨頭區(qū)域受壓大，并且*1趾也成為主要受力部位。正常人行走過程中，前足承擔(dān)體質(zhì)量的49％ ，中足與后足共同負(fù)擔(dān)體質(zhì)量的51*。
足底壓力分析技術(shù)的發(fā)展
在康復(fù)機(jī)構(gòu)/科研機(jī)構(gòu)/健身機(jī)構(gòu)/高等院校/醫(yī)院/兒童館/線下門店/運(yùn)動訓(xùn)練機(jī)構(gòu)/鞋類設(shè)計等領(lǐng)域發(fā)展越來越迅速。
（文章來源于互聯(lián)網(wǎng)）
